Patentrecht

Artikelnummer: 978-3-406-81873-8
Einband: Kartonierter Einband (Kt)
Verfügbarkeit: Lieferbar in ca. 5-10 Arbeitstagen
CHF 128.00
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Zum Werk
Diese praxisnahe Einführung stellt das moderne Patent- und Gebrauchsmusterrecht, auch unter dem Gesichtspunkt des europarechtlichen und internationalen Schutzes, nebst den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar.
Im Anhang sind u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften nebst Merkmalsanalyse dargestellt.

Vorteile auf einen Blick

  • mit dem EU-Abkommen zum Einheitlichen Patentgericht
  • mit internationalem Rechtsschutz
  • mit der Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des Gewerblichen Rechtsschutzes

Zur Neuauflage
Schwerpunkt der Neuauflage ist die Einrichtung des einheitlichen Patentgerichts für die Mitgliedstaaten der Europäischen Union (EPG/UPC). Darüber hinaus wird das Werk insgesamt auf den aktuellen Stand in Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur gebracht.

Zielgruppe
Für Rechtsreferendarinnen und -referendare, Rechtsanwaltschaft, Patentanwaltschaft (in der Ausbildung), Studierende (Rechtswissenschaft und technische Berufe), Richterschaft, Erfinderinnen und Erfinder, Rechtsabteilungen von Wirtschaftsunternehmen.

Zum Werk
Diese praxisnahe Einführung stellt das moderne Patent- und Gebrauchsmusterrecht, auch unter dem Gesichtspunkt des europarechtlichen und internationalen Schutzes, nebst den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar.
Im Anhang sind u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften nebst Merkmalsanalyse dargestellt.

Vorteile auf einen Blick

  • mit dem EU-Abkommen zum Einheitlichen Patentgericht
  • mit internationalem Rechtsschutz
  • mit der Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des Gewerblichen Rechtsschutzes

Zur Neuauflage
Schwerpunkt der Neuauflage ist die Einrichtung des einheitlichen Patentgerichts für die Mitgliedstaaten der Europäischen Union (EPG/UPC). Darüber hinaus wird das Werk insgesamt auf den aktuellen Stand in Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur gebracht.

Zielgruppe
Für Rechtsreferendarinnen und -referendare, Rechtsanwaltschaft, Patentanwaltschaft (in der Ausbildung), Studierende (Rechtswissenschaft und technische Berufe), Richterschaft, Erfinderinnen und Erfinder, Rechtsabteilungen von Wirtschaftsunternehmen.
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VerlagBeck, C H
EinbandKartonierter Einband (Kt)
Erscheinungsjahr2025
Seitenangabe338 S.
AusgabekennzeichenDeutsch
MasseH24.0 cm x B16.0 cm 574 g
Auflage7., überarbeitete Auflage
ReiheNJW-Praxis
AutorOsterrieth, Christian

Alle Bände der Reihe "NJW-Praxis"

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